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Aparato de reacción fotoquímica de alta presión TPR-HP, diseño de reactor fotoquímico
Componentes 1.Main: recipiente de la reacción del acero inoxidable, sistemas de PTFE, vidrio de cuarzo de la presión, filtro etc.
2.Customization: -120 ℃ ~ 300 ℃ Circulador de la temperatura alta y baja, dispositivo de la protección del gas de la liberación de la sobrepresión, tamiz estándar de Taylor.
3.Este tipo recipiente de reactor fotoquímico de alta presión necesita utilizar junto con la fuente de luz de la serie TOP-X.
Parámetros técnicos del reactor fotoquímico de alta presión TPR-HP:
Modelo | TPR-HP150 | TPR-HP300 | TPR-HP500 | TPR-HP1000 |
Tipo de fuente de luz | Xenon / lámpara UV | |||
Potencia de la fuente de luz | 500W | 500W | 1000W | 1500W |
Vida útil de la fuente de luz | 1000H | 1000H | 1000H | 1000H |
Características de la radiación | Punto de partida | Punto de partida | Punto de partida | Punto de partida |
Diámetro de irradiación | 80 mm | 80 mm | 80 mm | 100 mm |
Sistema de refrigeración | 3 radiadores fuertes | |||
Ventana de luz de presión | tener | |||
Aparato de agitación magnética | tener | |||
Plataforma elevadora | tener | |||
El material principal del recipiente de reacción | Acero inoxidable 316L / (material puro de la aleación del titanio / de Hastelloy ) opcional | |||
Capacidad interna de PTFE de corrosión única | 150ML | 300ML | 500 ml | 1000ML |
Capacidad interna PTFE resistente a la corrosión de la chaqueta (opcional) | 150ML | 300ML | 500 ml | 1000ML |
Presión de diseño (opcional) | 2KG / 5KG / 10KG / 20KG | |||
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